LSC-7000 [LEED Corporation（韓国）]
特徴
- 二重周波励起による高品位プラズマ CVD システムの実現
- 消耗品点数の削減による優れたメンテナンス性
- 大面積高均一成膜の達成
- 優れたヒータ温度分布
- 高排気特性によるパーティクルの低減
- 価格･用途に応じた豊富な装置バリエーション
概要
韓国LEED Corporation社（旧社名：NEXSO）は、ハイレートPE-SiH4 CVDプロセス（PE-SiO2 :>10000Å/min)を導入。二重周波励起方式による平行平板プラズマCVD方式を採用することで、緻密且つストレス制御性の高い成膜を高速に行うことができます。
システム構成例
| エッチングデーター | |
|---|---|
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| Side : 55 % , Bottom : 65 % ( About AR : 1.0 ) |
Side : 45 % , Bottom : 55 % ( About AR : 1.3 ) |
| 製品仕様 | |
|---|---|
| ウェハサイズ | 2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 8 |
| アプリケーション | SiH4－SiO2 TEOS-SiO2 |
| 処理方式 基板ホルダー プラズマソース プロセス室 排気系 MTTR、MTBF |
枚葉処理 ～500℃ セルフクリーニング C3F8+O2 リモートプラズマクリーニング（オプション） ドライポンプ&メカニカルブースター ロードロック室・トランスファー室 独立排気系 MTTR＜1H 、MTBF＞168H(RF on) |
| Dep Rate Within W/F Unif W/F to W/F Unif R.I Particles Step Coverage Film Stress |
10000(±350)Å/min ≤2 % (1σ%) ≤1.5 % (1σ%) 1.465(±0.015) 0.1/cm² @ ≤0.2μm ＞ 40 % (A/R:1 @ 1μm) -1.0E9 dyne/cm²(±0.5E9) |
